Lace, una startup noruega de equipos para semiconductores respaldada por Microsoft, ha recaudado 40 millones de dólares para desarrollar una tecnología que podría revolucionar el diseño y la fabricación de chips, según anunció la compañía el lunes.
Para la producción de chips de vanguardia, fabricantes como Taiwan Semiconductor Manufacturing Co e Intel emplean un proceso conocido como litografía, que utiliza la luz para grabar los complejos circuitos que forman la base de los procesadores de inteligencia artificial avanzados.
La industria utiliza sistemas de litografía óptica fabricados por la empresa neerlandesa ASML –líder del mercado– en una carrera constante por miniaturizar los componentes e integrar más funciones para aumentar la potencia de cálculo en una superficie de silicio limitada. Este sector está experimentando un renovado interés por parte de inversores y gobiernos, a medida que emerge una nueva ola de startups, algunas de las cuales aspiran a competir con la firma neerlandesa.
Lace ha desarrollado un enfoque innovador. En lugar de la luz, los ingenieros de Lace han creado una forma de litografía que utiliza un haz de átomos de helio. Gracias a esto, la compañía noruega podrá crear arquitecturas de chips 10 veces más pequeñas de lo que es posible actualmente, según declaró la directora general, Bodil Holst, en una entrevista con Reuters.
“Nuestra tecnología es un camino que potencialmente puede extender la hoja de ruta de la industria y permitir logros que de otro modo no serían posibles”, precisó Holst.
La principal ventaja del haz de átomos de helio es que permitiría a la industria crear estructuras como los transistores –los componentes básicos de los chips modernos– con una escala significativamente menor, alcanzando un grado “casi inimaginable”, según John Petersen, director científico de litografía en Imec, un centro de investigación e innovación para la industria de los semiconductores.
El haz que Lace utilizará para fabricar chips tiene un ancho de aproximadamente un solo átomo de hidrógeno, es decir, 0,1 nanómetros. Los equipos de litografía de ASML utilizan un haz de luz de alrededor de 13,5 nanómetros; a modo de comparación, un cabello humano mide aproximadamente 100.000 nanómetros de ancho.
Transistores y componentes más pequeños ofrecerían a los fabricantes la posibilidad de aumentar el rendimiento de los procesadores de IA más allá de las capacidades actuales. La tecnología de Lace permitiría a los fabricantes imprimir obleas con una resolución “en última instancia, atómica”, añadió Bodil Holst.
La ronda de financiación de Serie A de la empresa con sede en Bergen fue liderada por Atomico, con la participación de M12 (la rama de capital riesgo de Microsoft), Linse Capital, la Sociedad Española para la Transformación Tecnológica y Nysnø.
Lace, que no ha revelado su valoración global, ya ha desarrollado prototipos y planea instalar una herramienta de prueba en una fábrica piloto de fabricación de chips, o “fab”, alrededor de 2029. La empresa presentó sus resultados en un artículo de investigación durante una cumbre científica sobre litografía en febrero.
